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第54章 王总工授课2（第2页）

“王总工的制造图纸怎么会有问题，我看是你们自己没有能理解清楚。

制造图纸中明明白白的讲清楚了光刻对准技术由最初的明场和暗场对准发展到后来的干涉全息或外差干涉全息对准、混合匹配、由粗略到精细对准技术等-----”

王昊哲在门外听了一会儿，听到有研究员能理解自己的制造图纸，不住的点了点头。

随即王昊哲便推门走了进去，见到来人是王昊哲，研究室内的众人也不争吵了“刚刚在外面我听了一点你们之间的谈话，大概明白了你们的想法。

刚刚那位帮我说话的研究员是谁？

对我的研究有一定的见解，很不错。”

只见一位模样瘦小的小姑娘踮着脚尖举着手“是我，王总工。

通过我的理解您的制造图纸是没有问题的。”

“哈哈哈，真的感谢这位小姑娘的信任，不过各位能有不同的想法我也是很高兴的，科学研究就是要这样，通过不断地讨论我们才能取得进步。

我现在给你们讲解下你们手中制造图纸最重要地三个部分：

第一个部分是：双光束ttL对准技术。

该技术主要通过在掩模一侧通过精缩物镜进行测量，该技术能允许连续的倍率控制，具有稳定性好、精度高、速度快等优点。

利用该技术再配上‘超紫外光’能发挥出更大的工作能效。

第二个部分是：场像对准技术。

这种方法也叫视频图像处理对准技术（fieldimagealignment，FIA），是指在光刻套刻的过程中，掩模图样与硅片基板之间基本上只存在相对旋转和平移，充分利用这一有利条件，结合机器视觉映射技术，利用相机采集掩模图样与硅片基板的对位标记信号。

国际上其光源一般是宽带的卤素灯，波长在550~800nm。

但是我对这个技术进行了优化调整，我们将会使用波长更为合适的蓝紫外光，同这样的调整，该技术相对于其他的对准方式其具有对准精度高、结构简单、可操作性强、效率高的优势。

第三个部分是：双焦点对准方法。

这是星条旗国路易斯安那州立大学m．Feldman等人设计的双焦点物镜对准系统，是针对一般情况下掩模硅片标记无法同时成像而改进的。

不得不说，星条旗国为什么科技水平能领先于世界各国的确离不开这些科学巨匠。

该系统大致对准原理是，通过偏振分光镜将标记采集后的光路分成两路，如图一。

适当延长从掩模返回的光路长度，最后两标记都可以在ccd摄像机上成清晰等大的像，继而利于同时对准。

利用相应的标记图像处理技术，该方法可以达到约15nm对准精度（3σ，σ为标准差）。

各位以上就是主要的三个方面，也是你们需要攻克的三个方面。

刚刚的那位小姑娘，我想通过我的讲解你应该有更深刻的印象。

在座的各位研究员，是否还有其他的问题，如果有的话可以直接提出来。”

“王总工，我想问的是您刚刚说的三个部分技术都是为了‘校准’，那是否都要研究出来？还是只要研究出其中一个技术就行？”

还是刚刚的小姑娘问道。

“问的很好，其实很简单，三个技术都是独立的，但是我为了提高其校准性，三个校准技术要同时使用，通过三次校准提高其校准度，这样我们所得的结论将更加精确。

也就是说你们需要同时将三个技术全部攻克。

各位这个明白没?还有其他的疑问吗？”

见众人没有回复“我提议，刚刚的小姑娘可以成为你们校准技术研究所此次研究方向的小组长。”

王昊哲笑着说道。

此时的这位小姑娘双手捂着嘴不敢相信自己听到的一切-----