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第二十四章 坑要挖得深一点密一点（第2页）

他点名道。

“好的。”

陈中满口答应，他在这方面搞了几十年研究，不但熟悉国内的研究现状，对于国际最新动态也没有放松关注。

兼之郭逸铭向他透露了大致的研究方向，他下来查了很多资料，准备充分，随即朗朗说道：“磁性记录材料，最早始于1898年，丹麦工程师Poulsen发明了磁性钢丝录音机。

80多年来，磁性记录介质已经由磁性钢丝发展为塑料薄膜带基——也就是磁带、塑料薄膜盘片——也就是磁盘等多种介质，演化出录音带、录像带、数据记录磁带、数据存储磁盘等一系列现代磁性记录载体。

具体的磁介质加工工艺，有涂敷式、真空溅射式、离子渗透式，目前涂敷式磁性材料制备是主要制作方式，在大容量数据磁盘的制造中，则通常采用真空溅射式工艺。

涂敷式无需介绍，这是用沾粘胶把磁粉涂抹在不同的基质上，从而获得磁记录介质的工艺方法。

优点是制作简便、成本低，可以大批量制造。

但品质不高，无法作为大容量高密度存储介质。

通常用于制作磁带、录像带。

真空溅射，是在真空环境下，通过离子喷溅的方式来实现磁性材料附着于介质表面。

这种方法制造出来的磁记录介质，表面涂层均匀，颗粒细微，而且由于是冷温，介质不会出现变形，非常适用于大容量数据存储。

IBM在1967推出的第一款磁盘，直径32英寸，采用的就是涂敷式。

76年制造出5英寸盘，存储容量仅有180KB，他的发明人AlanShugart于去年离开了IBM，利用这项技术开办了一家采用金属为介质的驱动器生产厂，取名为希捷。

同时日本方面也推出一款基于3.5英寸塑料薄膜的软盘，存储容量为875KB，采用的是较为昂贵的真空溅射法制造。”

简明扼要，便将现行主要的制备方法，和国际上最新的数据存储发展，作了一番总结。

其他的研究员，也便都清楚公司下一步准备开发的产品，应该也是一款计算机使用的数据存储介质，软盘及其读写驱动器。

“很好，陈主任介绍得很全面！”

郭逸铭拍拍手，将众人的注意力集中到他身上：“通过陈主任的说明，我向大家都知道了我们接下来的工作，没错，就是研究一款软盘和与之配套的驱动器。

这方面，公司已经有相应的技术储备……”

他看看被提起兴趣的研究员们，笑着说道：“公司的相关储备技术分为磁性材料的制备、磁记录介质的制备、磁头材料三个方面。”

听到西部计算机公司在这三个主要关键技术上都有相应技术储备，所有人都是一振。

软盘及软盘驱动器，最关键的就是这三个方面，解决了这三个方面，将之制造出来也不过是顺水推舟的事情。

“首先是磁性材料，现行的主要材料是氧化铁，这种材料来源广泛，可以从钢铁厂酸洗池中大量获得，磁带、磁盘大都采用氧化铁为磁记录材料。

制备方法主要采用浓缩法和化学共沉法。

浓缩法需要经过多次浓缩、分解，工序比较多，成本较高，颗粒细度为20到400微米。

化学共沉法通过添加催化剂，使之反应中和沉淀，制备出来的氧化铁颗粒非常细腻，其直径小于0.5微米，是制造大容量高密度软盘的优秀材料。

但这种方法污染严重，而且分离困难，工序更加繁复，成本相当高。

我们公司经过研究，研发出水热制备法。

这是一种新型制备方法，先向溶液中投放铁氧化物和M2+水溶液，搅拌后再放入一种特殊的碱溶液，从而在溶液中间形成包含中间沉淀物的胶质悬浮液。

取中间悬浮液，加热到一定温度，再吹入纯净空气，使之发生氧化反应，当沉淀物消失，高纯度铁氧化体便转化完成。

经过计算，这样制备的成本与浓缩法相当，但铁氧化体的颗粒却达到了0.5到1微米之间，接近化工沉淀法品质。

用这种制备法，生产出来的铁氧化体完全可以作为优秀的磁性材料，运用于制造高密度大容量软盘。