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第70章 入股图纸玄武队（第3页）

“浸没式光刻技术设计图纸，45纳米和32纳米的技术，怎么了？”

王厂长立马拿过设计资料。

天，还可以这样？

通过在投影物镜和晶圆之间放置水等液体介质。

利用液体的折射率使光在其中的波长变短，突破193纳米波长的限制。

“天啊，原来可以这样。”

“我一直以为193纳米是人类的极限。”

“陆总，这个设计，最小可以做到多少？”

陆渊想了想，有点忘记了。

“应该可以做到两纳米。”

“两纳米？”

普通硅原子的大小是0.2纳米。

真能做到两纳米？

“当然，靠这个肯定不行。”

“这是第二份，极紫外光刻技术与多重曝光技术。”

“使用极紫外光刻技术可以达到5纳米，加上多重曝光，可以达到2纳米。”

王厂长的手在抖。

是的，在颤抖。

这是世界上都没有的技术。

“这是第三份。”

“第三份？”

他拿起来打开。

白纸？

“陆总，这是？”

“对，白纸。”

王厂长不解。

“这是激励，如果你们完成前两项研究，我会提供这第三份设计。”

“当然，如果你们把资料泄露了。”

“那自然……”

王厂长猛的抱起两份设计资料。

“我知道，这自然是绝密文件。”

“不可能泄露的。”

“对了，这需要招收更多的尖端人员，这个你后续安排吧。”